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陶瓷拋光盤

陶瓷拋光盤


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陶瓷拋光盤的盤面材料屬于超硬材料,拋光過(guò)程是硬拋過(guò)程。拋光的機(jī)理理論是:在壓力和轉(zhuǎn)速的作用下,研磨液在拋光盤面與工件之間形成懸浮的水膜。即在這層水膜的作用下對(duì)工件進(jìn)行研拋,根據(jù)不同粒度的拋光液得到相應(yīng)的表面光潔度。 加工陶瓷密封圈和水閥片可達(dá)到的參數(shù):表面粗糙度:Ra0.1um.平面度:1-2個(gè)光圈。

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陶瓷拋光盤的盤面材料屬于超硬材料,拋光過(guò)程是硬拋過(guò)程。拋光的機(jī)理理論是:在壓力和轉(zhuǎn)速的作用下,研磨液在拋光盤面與工件之間形成懸浮的水膜。即在這層水膜的作用下對(duì)工件進(jìn)行研拋,根據(jù)不同粒度的拋光液得到相應(yīng)的表面光潔度。

 

陶瓷拋光盤是采用氧化鋁陶瓷材料作為基面,金屬骨架作為基體的拋光盤。主要用于陶瓷材料、藍(lán)寶石材料、光學(xué)玻璃等材料的拋光。

陶瓷拋光盤可以加工的材料:氧化鋁陶瓷、氧化鋯陶瓷、碳化硅陶瓷、光學(xué)玻璃、藍(lán)寶石晶片等材料的拋光加工。

加工陶瓷密封圈和水閥片可達(dá)到的參數(shù):表面粗糙度:Ra0.1um.平面度:1-2個(gè)光圈。

 

 

關(guān)鍵詞:

陶瓷

拋光

陶瓷拋光盤

超硬材料

水閥片