物理清洗法

• 機(jī)械擦拭：使用柔軟的布、毛刷等工具，蘸取適量的清潔劑或溶劑，輕輕擦拭氧化鋁陶瓷表面，可去除表面的灰塵、污漬和松散的雜質(zhì)。對于一些頑固污漬，可選用具有一定摩擦力但不會(huì)刮傷陶瓷表面的工具，如尼龍刷等。例如，在實(shí)驗(yàn)室中，若氧化鋁陶瓷表面只是有一些輕微的灰塵和指紋印，可用干凈的無紡布蘸取少量乙醇輕輕擦拭即可。

• 高壓水沖洗：利用高壓水槍產(chǎn)生的高速水流沖擊氧化鋁陶瓷表面，能有效去除表面的大塊污垢、油污和粘附性不強(qiáng)的雜質(zhì)。這種方法適用于表面污染較為嚴(yán)重且陶瓷制品能夠承受一定壓力的情況，如一些大型的氧化鋁陶瓷管道或塊狀陶瓷的外表面清洗。但要注意控制水壓，避免對陶瓷表面造成損傷。

• 超聲波清洗：將氧化鋁陶瓷制品放入裝有清洗液的超聲波清洗槽中，通過超聲波發(fā)生器產(chǎn)生的高頻振動(dòng)，在清洗液中形成無數(shù)微小氣泡，這些氣泡在閉合時(shí)會(huì)產(chǎn)生強(qiáng)烈的沖擊波，將陶瓷表面的污垢、油脂、微粒等污染物分解、乳化并剝離下來 ，從而達(dá)到清潔的目的。超聲波清洗對于形狀復(fù)雜、有小孔或縫隙的氧化鋁陶瓷制品清洗效果尤為顯著，能深入到常規(guī)清洗方法難以到達(dá)的部位。例如，對于有精細(xì)內(nèi)部結(jié)構(gòu)的氧化鋁陶瓷電子元件，超聲波清洗可以很好地去除其內(nèi)部的微小雜質(zhì)。

   

   

化學(xué)清洗法

• 堿洗：常用的堿性溶液有氫氧化鈉、碳酸鈉、氨水等。堿洗可以去除氧化鋁陶瓷表面的油脂、有機(jī)物和一些金屬氧化物等污染物。例如，將氧化鋁陶瓷浸泡在適當(dāng)濃度的氫氧化鈉溶液中一段時(shí)間，然后用清水沖洗干凈，可以有效去除表面的油污。但堿洗時(shí)要注意控制溶液的濃度和浸泡時(shí)間，避免對陶瓷表面造成過度腐蝕2。

• 酸洗：常用的酸洗液有硝酸、鹽酸、氫氟酸等。酸洗能夠去除氧化鋁陶瓷表面的鐵銹、水垢、氧化皮等雜質(zhì)，以及一些堿性溶液難以去除的污漬。不過，由于氧化鋁陶瓷本身具有一定的耐酸性，但不同晶型和純度的氧化鋁陶瓷耐酸性有所差異，所以在酸洗時(shí)需要嚴(yán)格控制酸的濃度、溫度和浸泡時(shí)間，防止對陶瓷表面造成損害。比如，對于含有少量金屬雜質(zhì)的氧化鋁陶瓷，可以用稀硝酸溶液進(jìn)行浸泡清洗，去除表面的金屬氧化物2。

• 有機(jī)溶劑清洗：利用有機(jī)溶劑如乙醇、丙酮、甲苯等對油脂、有機(jī)物等具有良好溶解性的特點(diǎn)，來清洗氧化鋁陶瓷表面的油污、膠漬等污染物。有機(jī)溶劑清洗后揮發(fā)速度快，不會(huì)在陶瓷表面留下殘留，但有機(jī)溶劑大多易燃、有毒，使用時(shí)要注意安全，需在通風(fēng)良好的環(huán)境中進(jìn)行操作。例如，若氧化鋁陶瓷表面有膠水殘留，可用丙酮進(jìn)行擦拭清洗。

   

   

其他特殊清洗方法

• 氫氧焰燒灼：通過氫氧焰產(chǎn)生的高溫對氧化鋁陶瓷表面進(jìn)行燒灼，可使表面的有機(jī)物瞬間燃燒分解，同時(shí)還能對陶瓷表面進(jìn)行一定程度的活化，有利于后續(xù)的處理。但這種方法需要專業(yè)的設(shè)備和操作技能，且燒灼溫度和時(shí)間控制不當(dāng)容易導(dǎo)致陶瓷表面過熱受損或性能改變，一般用于對表面清潔度和活性要求極高的特殊應(yīng)用場景，如某些高端電子元件制造中的氧化鋁陶瓷基片清洗1。

• 等離子清洗：利用等離子體中的活性粒子與氧化鋁陶瓷表面的污染物發(fā)生物理和化學(xué)反應(yīng)，將污染物去除并改變陶瓷表面的化學(xué)狀態(tài)，提高表面的親水性或粘附性等性能。等離子清洗具有清洗效果好、對陶瓷表面損傷小、無污染等優(yōu)點(diǎn)，常用于對表面質(zhì)量要求較高的氧化鋁陶瓷制品，如光學(xué)鏡片、半導(dǎo)體器件等的清洗 。